清溢光電688138.SH：佛山生產基地項目擬引入的光刻設備將不限于激光
導讀：
格隆匯3月7日丨清溢光電近日在接待機構投資者調研時表示，平板顯示掩膜版方面，公司陸續引進新的光刻機設備，后續將進一步提升產能。
半導體掩膜版業務方面，公司目前已擁有業內先進的激光光刻機，CD精度可達到130nm掩膜版的要求。佛山生產基地項目擬引入的光刻設備將不限于激光光刻機，也將適時考慮引入電子束光刻機。由于半導體光刻機的采購周期較長，公司技術方面正在逐步提升，公司將分步投資，具體請關注公司后續披露的相關公告。
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