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中微公司發(fā)布首款晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona?, 刻蝕關鍵工藝全覆蓋再進一步

作者:網(wǎng)絡 時間:2025-03-27 11:07 點擊:
導讀:在SEMICON China 2025展會期間,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布其自主研發(fā)的12英

在SEMICON China 2025展會期間,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布其自主研發(fā)的12英寸晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona?正式發(fā)布。中微公司此款刻蝕設備的問世,實現(xiàn)了在等離子體刻蝕技術領域的又一次突破創(chuàng)新,標志著公司向關鍵工藝全面覆蓋的目標再進一步,也為公司的高質(zhì)量發(fā)展注入強勁動能

此款12英寸邊緣刻蝕設備Primo Halona?采用具有中微公司特色的雙反應臺設計,可靈活配置最多三個雙反應臺的反應腔,且每個反應腔均能同時加工兩片晶圓,在保證較低生產(chǎn)成本的同時,滿足晶圓邊緣刻蝕的量產(chǎn)需求,從而實現(xiàn)更高的產(chǎn)出密度,提升生產(chǎn)效率。此外,設備腔體均搭載Quadra-arm機械臂,精準靈活,腔體內(nèi)部采用抗腐蝕材料設計,可抵抗鹵素氣體腐蝕,為設備的穩(wěn)定性與耐久性提供保證。此外,Primo Halona?配備獨特的自對準安裝設計方案,不僅可提高上下極板的對中精度和平行度,還可有效減少因校準安裝帶來的停機維護時間,從而幫助客戶優(yōu)化產(chǎn)能,精益生產(chǎn)。在設備智能化方面,Primo Halona?提供可選裝的集成量測模塊,客戶通過該量測模板可實現(xiàn)本地實時膜厚量測,一鍵式實現(xiàn)晶圓傳送的補償校準,實現(xiàn)更好的產(chǎn)品維護性,大大提升后期維護效率。

圖片 1.png

中微公司晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona?

據(jù)業(yè)績快報顯示,中微公司2024年營業(yè)收入約90.65億元,較2023年增加約28.02億元。公司在過去13年保持營業(yè)收入年均增長大于35%,近四年營業(yè)收入年均增長大于40%的基礎上,2024年營業(yè)收入又同比增長約44.73%。其中,刻蝕設備收入約72.77億元,在最近四年收入年均增長超過50%的基礎上,2024年又同比增長約54.73%。

此外,中微公司持續(xù)加碼創(chuàng)新研發(fā),2024年在研項目廣泛涵蓋六大類設備,積極推進超過二十款新型設備的研發(fā)工作,并在半導體薄膜沉積設備領域不斷突破,推出了多款LPCVD薄膜設備和ALD薄膜設備新產(chǎn)品,獲得了重復性訂單。公司新開發(fā)的硅和鍺硅外延EPI設備等多款新產(chǎn)品,也會在近期投入市場驗證。

探索不息,創(chuàng)新不止。一直以來,中微公司持續(xù)踐行“五個十大”的企業(yè)文化,將產(chǎn)品開發(fā)的十大原則始終貫穿于產(chǎn)品開發(fā)、設計和制造的全過程,研發(fā)團隊秉持為達到設備高性能和客戶嚴格要求而開發(fā)的理念,堅持技術創(chuàng)新、設備差異化和知識產(chǎn)權保護。

自2004年成立以來,中微公司致力于開發(fā)和提供具有國際競爭力的微觀加工的高端設備,現(xiàn)已發(fā)展成為國內(nèi)高端微觀加工設備的領軍企業(yè)之一。中微公司綜合競爭優(yōu)勢不斷增強,聚焦提高勞動生產(chǎn)率,在2022年達到人均銷售350萬元的基礎上,2024年人均銷售超過了400萬元,各項營運指標已達到國際先進半導體設備企業(yè)水平。

中微公司將繼續(xù)瞄準世界科技前沿,持續(xù)踐行三維發(fā)展戰(zhàn)略,打造更多具有國際競爭力的技術創(chuàng)新與差異化產(chǎn)品,為客戶和市場提供性能優(yōu)越、高生產(chǎn)效率和高性價比的設備解決方案。


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